10m3/hEDI高純水設(shè)備工作原理：

　　高純度水對許多工商業(yè)工程非常重要，比如：半導(dǎo)體制造業(yè)和制藥業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。然而，膜系統(tǒng)和膜處理過程作為預(yù)處理過程或離子交換系統(tǒng)的替代品越來越流行。如電除鹽過程（EDI）之類的膜系統(tǒng)可以很干凈地去除礦物質(zhì)并可以連續(xù)工作。而且，膜處理過程在機(jī)械上比離子交換系統(tǒng)簡單得多，并不需要酸、堿再生及廢水中和。EDI處理過程是膜處理過程中增長快的業(yè)務(wù)之一。EDI帶有特殊水槽，水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹脂。EDI主要用于把總固體溶解量（TDS）為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水。

　　EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如圖所示。 EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水. EDI設(shè)備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm（25℃）。EDI純水電阻率可以高達(dá)18 MΩ.cm（25℃），但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm（25℃）的純水。

10m3/hEDI高純水設(shè)備特點(diǎn)

ＥＤＩ裝置不需要化學(xué)再生,可連續(xù)運(yùn)行,進(jìn)而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。

結(jié)構(gòu)特點(diǎn)：

　　1、淡水隔板采用衛(wèi)生級PE材料

　　2、EDI膜片采用進(jìn)口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜

　　3、采用進(jìn)口EDI均粒樹脂和國產(chǎn)EDI均粒樹脂

　　4、EDI電極板采用鈦鍍釕技術(shù)

　　5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成。

　　6、固定螺絲采用國標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)件

　　7、膜堆出廠高試壓7bar不漏水

　　8、膜堆電阻低、功耗小

　　9、外觀裝飾板造型美觀結(jié)實(shí)

　　10、大膜堆處理水量3T/H，小模堆處理水量75L/H

　　11、純水、濃水、極水通道設(shè)計合理，不易堵塞，水流分布均勻、*。

進(jìn)水指標(biāo)要求：

　　◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水

　　◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：＜25ppm。

　　◎電導(dǎo)率：＜40μS/cm

　　◎ＰH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時，EDI工作的pH范圍為8.0～9.0。

　　◎溫度： 5～35℃。

　　◎進(jìn)水壓力：＜4bar（60psi）。

　　◎硬度：（以CaCO3計）：＜1.0ppm。

　　◎有機(jī)物（ TOC）：＜0.5ppm。

　　◎氧化劑：Cl2＜0.05ppm，O3＜0.02ppm。

　　◎變價金屬： Fe＜0.01ppm，Mn＜0.02ppm。

　　◎H2S：＜0.01ppm。

　　◎二氧化硅：＜0.5ppm。

　　◎色度：＜5APHA。

　　◎二氧化碳的總量：＜10ppm

　　◎ SDI 15min：＜1.0。